Bị chặn EUV, Trung Quốc tạo đột phá trong sản xuất chip dưới 3nm
Các nhà nghiên cứu Trung Quốc đang thử một hướng đi mới để tiến tới chip dưới 3nm bằng công nghệ quang khắc DUV, trong bối cảnh nước này vẫn bị hạn chế tiếp cận các máy EUV tiên tiến của ASML.